参加お礼

253名の参加者の皆様に、広島大学東広島キャンパスまで足をお運びいただき、3日間の会期を無事終了しました。 その間、特別講演3件、招待講演2件、若手セッション6件、教育セッション5件、企画1件、学会賞受賞講演3件、 一般発表（オーガナイズドセッション「分子イメージング」5件、一般口頭発表48件、ポスター発表51件）、合計124件の発表がありました。

私たちはこの学術大会を開催するに当たり、広島らしさを出す、若手セッションを行う、分子イメージングのセッションを行う、 等を重要な位置づけとしてきました。完璧にできたとは申しませんが、多くの出席者の方に喜んでいただけたと思っております。 3日間の会期を通して、私たちの関係する実務の中から課題を設定し、普遍的なものを求めるという私たちの学会のスタイルは確立されつつあると感じました。 ただ、それと同時に、私たちの実務の背景にある理論的なものをもっと学ばなければならない、とも感じました。

広島大学東広島キャンパスは、交通の便が若干悪く、ご不便をおかけしたと存じます。 また、行き届かぬ点もあったかと存じますが、講演者の皆様、座長の皆様、審査員の皆様、ご協力いただいた企業団体の皆様、 そしてすべての参加者の皆様に厚くお礼申し上げます。

次期大会（2011年11月30日～12月2日、東京工業大学）でまたお目にかかれますことを楽しみにしております。よいお年をお迎えください。

2010年12月10日
JRSM2010広島　実行委員会

　　謝辞

本学術大会の開催にあたり、多数の企業、団体よりご支援賜りました。
改めて、ここに厚くお礼申し上げます。

• アロカ株式会社
• 大塚器械株式会社
• サンゴバン株式会社
• 株式会社島津製作所
• 住友重機械工業株式会社
• 株式会社千代田テクノル
• テクニカルサービス株式会社
• 東京ニュークリア・サービス株式会社
• 長瀬ランダウア株式会社
• 日本原燃株式会社
• 株式会社ミクセル
• （以上　アイウエオ順）

広島コンベンションビューロー

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